超纯水设备系统主要采用全自动反渗透+电去离子（EDI）+抛光混床超纯水处理技术，前置预处理加反渗透处理，有效去除水中各种盐份及杂质，然后运用CEDI及抛光混床系统，进一步提升水质，使出水达到用水工艺要求。

电子半导体集成电路的集成度越高，对水质要求越高，这也对超纯水设备的处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

超纯水设备

电子半导体用超纯水设备特点：

1、进口零部件组装，更加耐用。

2、可以随时增加膜的数量以增加处理量。

3、自我保护系统，故障急停。

4、复合膜拥有更高的分离率和透过率。

5、水利用高，能产生更多的可饮用水。

6、体积更小，使用工地面积小。

7、淡水即可冲洗符合膜。

8、部件更加耐用，长期无需维修。

9、电子半导体用超纯水设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

电子半导体用超纯水设备优势：

EDI超纯水装置性能优势数不胜数，其能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，不会因为树脂再生而停止运行，设备结构设计相对靠紧，所以其占地非常小，可以为企业节省很多空间，超纯水设备在出厂前均需进行装置调试，所以设备故障几率较小，日常保养、维修等操作都非常简单。

超纯水系统内部还安置有反渗透预脱盐技术，再次从根本上行保障了设备的出水水质，与此同时，超纯水制取设备废水产出量少，不会对环境造成污染，有非常高的环境效益、经济效益，其发展前景广阔。

电子半导体用超纯水设备特点繁多，技术先进，质量可靠，满足了不同行业的用水需求，随着技术的进步，应用的范围也就越来越广。

新闻名称：超纯水设备在电子半导体行业的应用
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